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使用新一代高度可調(diào)的低介電薄膜來解決串擾、隔離等制造挑戰(zhàn)

作者：泛林集團公司副總裁兼電介質(zhì)原子層沉積產(chǎn)品總經(jīng)理Aaron Fellis提升集成電路中的介電層性能可以在現(xiàn)在和未來的存儲器和邏輯電路發(fā)展中產(chǎn)生巨大的戰(zhàn)略影響。想象一下，在一個擠滿人的大房間里，每個人都有一條您需要的重要信息。他們都很樂意告訴您他們的信息，但問題是，他們都在同一時間說話。房... （來源：技術(shù)文章頻道）

沉積技術(shù)SPARC電薄膜串擾 2023-7-28 16:10