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創(chuàng)新的 UPMEM PIM-DRAM 需要創(chuàng)新的電源完整性分析
UPMEM 提出的創(chuàng)新型 PIM-DRAM 模塊有望讓 IC 行業(yè)節(jié)省大量的資源和運營成本。但是，要想取得市場成功，UPMEM 必須確保他們的新模塊能夠有效地滿足市場對功耗和可靠性的要求。由于使用 mPower 集成式功耗分析流程可以嚴格且易用的分析模擬和數(shù)字電路，因而 UPMEM 確信他們的新 PIM-DRAM 模塊能夠提供符合設計期望的功耗、性能和可靠性。
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mPower 簡介
電源完整性分析用于評估電路，確定其在實現(xiàn)后能否提供符合設計／預期的性能和可靠性。設計人員必須能夠驗證從 RTL／門級到芯片級集成，直到封裝和電路板系統(tǒng)級的模擬和數(shù)字電源完整性。mPower 工具集是一種創(chuàng)新的自動化電源完整性驗證解決方案，它將模擬和數(shù)字 EM、IR 壓降及功耗分析整合為一個完整、可擴展的解決方案，實現(xiàn)面向所有技術和所有設計類型且高度可信的功耗分析。
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云中 EDA – 為什么是現(xiàn)在？
當今業(yè)界在將第三方公共云與 Calibre nmPlatform 等電子設計自動化 (EDA) 應用程序結合使用方面，表現(xiàn)出空前高漲的熱情。我們現(xiàn)在處于一個關鍵路口，在計算需求、技術和增強的安全性的共同作用下，利用云來將您的下一個集成電路 (IC) 設計推向市場儼然已成為可行且必要之舉。下面我們來探討一下，云何以成為一個可行選項，以及如何使用云來擴展您在成熟工藝節(jié)點（例如 45nm 至 28nm）和...
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Calibre nmLVS-Recon 技術加快上市時間
有一個趨勢非常明顯……流片變得越來越困難，需要的時間也越來越長。作為日益壯大的創(chuàng)新性早期設計驗證技術套件的一部分，Calibre nmLVS-Recon 工具使設計團隊能夠快速檢查 “存在問題” 和不成熟的設計，以便更快、更早地發(fā)現(xiàn)并修復具有重大影響的電路錯誤，從而在總體上縮短流片排程和上市時間。
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云端可靠性驗證帶來 顯著的運行時間優(yōu)勢
設計復雜性和上市時間壓力迫使公司紛紛尋找創(chuàng)新的方法來利用所有可用的資源。“非內部部署” 云計算環(huán)境提供了一個可擴展、可持續(xù)的平臺，能夠大幅改善 Calibre PERC 流程和其他嚴苛的 EDA 計算任務的運行時間。在云硬件資源上運行 Calibre PERC 驗證流程以滿足高峰使用需求，可以提高生產率并加快周轉速度。了解云計算的成本 / 效益關系，有助于公司確定可提供最大回報的最佳配置。
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