KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)針對 10 納米及以下的掩膜技術推出了三款先進的光罩檢測系統,Teron™ 640、Teron™ SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實現當前和下一代掩膜設計的關鍵,使得光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識光刻中顯著并嚴重損害成品率的缺陷... (來源:新品頻道)
KLA-Tencor掩膜技術光罩檢測系統 2016-8-26 11:42
KLA-Tencor 公司宣布推出 Teron™ SL650,該產品是專為集成電路晶圓廠提供的一種新型光罩質量控制解決方案,支持 20nm 及更小設計節點。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight™ 光學技術,提供必要的靈敏度和靈活性,以評估新光罩的質量,監控光罩退化,并檢測影響成品率的光罩缺陷,... (來源:新品頻道)
KLA-TencorTeron SL650光罩檢測系統 2014-5-28 13:51