為提升盈利能力，三星電子正對存儲業(yè)務實施新戰(zhàn)略：在 DRAM 價格持續(xù)上漲的背景下，優(yōu)先擴大通用型 DRAM 產(chǎn)能，同時暫緩高帶寬存儲器（HBM）相關投入。未來數(shù)年，公司可能會擴大通用型 DRAM 的生產(chǎn)，以提高盈利能力。 當前，DDR5、LPDDR5X 及 GDDR7 等 DRAM 產(chǎn)品價格持續(xù)攀升。據(jù)市場消息，三星... （來源：新聞頻道）
三星存儲DRAM 2025-11-20 10:27
一枚小小的芯片，想要實現(xiàn)規(guī)模化量產(chǎn)的核心挑戰(zhàn)就在于其納米級工藝的精密控制。然而，這些微觀結構往往藏在原子尺度的深處——要想看清它們，過去只能依靠造價高昂、體積龐大的同步輻射裝置。如今，這樣的專業(yè)檢測被“搬”上了一張兩平方米的實驗桌。 近期，科大硅谷片區(qū)企業(yè)安... （來源：新聞頻道）
國科量光科學儀器 2025-11-18 11:19
英偉達 CEO 黃仁勛于本周四對韓國進行了 15 年來首次正式訪問，三星今日宣布與英偉達達成新合作，啟動一個配備超過 5 萬塊英偉達 GPU 的完整 AI 工廠項目。 三星表示，通過部署超過 5 萬塊英偉達 GPU，AI 將貫穿三星整個制造流程，加速下一代半導體、移動設備和機器人的研發(fā)與生產(chǎn)。 三星還計... （來源：新聞頻道）
三星英偉達AI GPU 2025-10-31 16:05
德國維爾茨堡大學的研究人員成功研制出了全球最小的光發(fā)射像素，其尺寸比現(xiàn)有選項小了許多倍——僅為300x300納米。 如果這種技術能夠擴大規(guī)模并構建成標準顯示屏，理論上將能夠?qū)崿F(xiàn)尺寸僅有1毫米的1080p分辨率屏幕。 目前市場上最緊湊的獨立發(fā)光二極管是Micro OLED，其尺寸達到了近... （來源：技術文章頻道）
發(fā)光像素 2025-10-29 09:39
江蘇影速集成電路裝備股份有限公司成立于2014年，榮獲國家專精特新小巨人及高新技術企業(yè)稱號，累計專利超百項。公司核心業(yè)務專注于解決我國電子產(chǎn)業(yè)鏈中設備制造環(huán)節(jié)的技術短板，尤其在PCB和半導體光刻設備領域取得顯著成果。其FPD激光直寫曝光設備FEM系列，更是實現(xiàn)面板制造全流程貫通的“國之重... （來源：新聞頻道）
影速 FPD集成電路 2025-10-28 10:47
據(jù)“安徽師范大學”消息，近日，安徽師范大學校長熊宇杰教授團隊聯(lián)合中國科學技術大學相關科研人員，在溫和條件下利用激光輻照激發(fā)等離激元光熱與熱電子效應，成功創(chuàng)制出亞納米尺度的高熵合金。該研究成果已發(fā)表于國際權威期刊《自然·材料》。 將五種或更多不同金屬“融合&rd... （來源：新聞頻道）
高熵合金 2025-10-20 15:21
據(jù)韓國媒體報道，SK海力士已著手推進基于10納米級第六代（1c）DRAM的第七代圖形記憶體（GDDR7）生產(chǎn)，最快將于今年底在韓國利川M16廠開始量產(chǎn)，并于明年起全面擴大供應。 業(yè)界預期，特斯拉與英偉達（NVIDIA）將是首批客戶。 根據(jù)知情人士透露，SK海力士正將1c制程導入GDDR7，計劃配合主要客戶新一代... （來源：新聞頻道）
SK海力士1cGDDR7 2025-9-26 12:52
2025年9月12日，SK海力士宣布，已成功完成面向AI的超高性能存儲器新產(chǎn)品HBM4的開發(fā)，并在全球首次構建了量產(chǎn)體系。 SK海力士表示：“公司成功開發(fā)將引領人工智能新時代的HBM4，并基于此技術成果，在全球首次構建了HBM4的量產(chǎn)體系。此舉再次向全球市場彰顯了公司在面向AI的存儲器技術領域的... （來源：新聞頻道）
SK海力士HBM4 2025-9-12 13:24
昨日，星鑰半導體（武漢）有限公司微型發(fā)光二極管（Micro LED）生產(chǎn)線在光谷正式通線，成為國內(nèi)首條 8 英寸硅基氮化鎵 Micro LED 芯片中試線。 東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū)官方介紹稱，星鑰半導體于 2024 年 10 月落戶光谷，僅用 8 個月時間完成了廠房建設、設備搬入，知識產(chǎn)權數(shù)量突破百件。 查... （來源：新聞頻道）
星鑰半導體LED 2025-9-9 10:33
在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱 “中微公司”，股票代碼：688012.SH）宣布重磅推出六款半導體設備新產(chǎn)品。這些設備覆蓋等離子體刻蝕（Etch）、原子層沉積（ALD）及外延（EPI）等關鍵工藝，不僅充分彰顯了中微公司在... （來源：新聞頻道）
中微公司半導體設備 2025-9-5 10:02
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