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Dai Nippon Printing Co., Ltd.（簡稱DNP，東京證券交易所：7912）開始研發面向2納米邏輯半導體的光刻掩模版制造工藝，支持極紫外(EUV)光刻這一前沿的半導體制造技術。 EUV光刻及光刻保護膜Pellicle的圖片（照片：美國商業資訊） DNP還將作為分包商向東京Rapidus Corporation (Rapidus)提供這種新開發... （來源：新聞頻道）
DNP2納米EUV光刻 2024-3-29 09:05
響應電路線寬日益精細化的半導體市場需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功開發出一種光掩膜制造工藝，能夠適應3納米（10-9米）光刻工藝，以支持半導體制造的尖端工藝——極紫外(EUV)光刻。 能夠支持3納米EUV光刻的光掩膜（照片：美國商業資訊） [背景]DNP不斷滿足半導體制造商... （來源：新品頻道）
DNP 3納米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
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