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光罩護膜 / 薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關鍵部件,指的是在光罩上展開的一層薄膜,然后用機器在上面繪制要在晶圓上壓印的電路,旨在使光罩免受空氣中微塵或揮發性氣體的污染并減少光掩模損壞,該領域目前仍由荷蘭 ASML、日本三井化學主導,而韓國 S&S Tech 等后來居上者也是主要供應商之一。韓... (來源:新聞頻道)
三星 EUV 薄膜 2023-1-16 15:12
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