不僅能夠應用于全畫幅CMOS傳感器等各種器件的制造還可應用于逐漸興盛的XR器件制造領域佳能將于2023年3月13日發(fā)售面向前道工序的半導體光刻機新產(chǎn)品----i線※1步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn)0.5μm(微米※2)高解像力與50×50mm大視場曝光。 FPA-5550iX 新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能... (來源:新品頻道)
佳能半導體光刻機FPA-5550iX 2023-3-14 10:11