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↓在全部中搜索到 388 條關于“EUV”的信息，用時:0.028 sec.

DNP實現適用于超2nm一代的EUV光刻光掩模精細圖案分辨率

開始供應用于下一代半導體的高NA EUV光掩模樣品Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 成功實現超2nm（nm：10-9米）一代1邏輯半導體光掩模所需的精細圖案分辨率，支持半導體制造領域的尖端工藝——極紫外光（EUV）光刻技術。用于超2nm一代EUV光刻的光掩模圖像（照片：美國商業資訊） DN...
DNPEUV光刻 2024-12-13

DNP加速開發面向2納米EUV光刻時代的光刻掩模版制造工藝

Dai Nippon Printing Co., Ltd.（簡稱DNP，東京證券交易所：7912）開始研發面向2納米邏輯半導體的光刻掩模版制造工藝，支持極紫外(EUV)光刻這一前沿的半導體制造技術。 EUV光刻及光刻保護膜Pellicle的圖片（照片：美國商業資訊） DNP還將作為分包商向東京Rapidus Corporation (Rapidus)提供這種新開發...
DNP2納米EUV光刻 2024-03-29

ASML 回擊質疑：High－NA EUV 光刻仍是未來最經濟選擇

ASML 首席財務官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當地媒體 Bits&Chips 的采訪。在采訪中，Dassen 回應了分析機構 SemiAnalysis 的質疑，表示 High-NA（高數值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機仍是未來最經濟的選擇。SemiAnalysis 之前刊發文章，認為 High-NA 光刻技術將使用更高的曝光劑量，從而明顯...
ASMLHigh－NA EUV 光刻 2024-02-04

Intel確認14代酷睿Meteor Lake下半年到來：首發4nm EUV+新架構

Intel今日發布一季度財報，雖然轉盈為虧，且收入連續五個季度下滑，但因為數據好于華爾街分析師預期，且二季度收入將環比增長，帶動股價在常規交易中上漲3%，盤后上漲5%。產品方面，Intel也做了更新說明，披露稱Meteor Lake流星湖處理器正加速生產，將在下半年問世。不出意外的話，Meteor Lake將作...
intelMeteor Lake4nm EUV+新架構 2023-04-28

EUV設備爭搶熱度降溫 ASML傳首度遭砍單

受到半導體景氣反轉、存儲器產業陷入困境與美鎖中禁令等影響，加上近期臺積電傳出在臺擴產計劃將減速的重磅消息，全球半導體設備材料供應鏈如坐針氈。據臺設備業者透露，前十大設備廠中已有多家業者對于2024年營運展望轉趨保守，現已提前進行人事、行銷等各項成本費用撙節計劃以度寒冬。當中值得注意的...
EUV設備光刻機 2023-04-17

三星電子開發出透光率達 88% 的 EUV 薄膜

光罩護膜 / 薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關鍵部件，指的是在光罩上展開的一層薄膜，然后用機器在上面繪制要在晶圓上壓印的電路，旨在使光罩免受空氣中微塵或揮發性氣體的污染并減少光掩模損壞，該領域目前仍由荷蘭 ASML、日本三井化學主導，而韓國 S&S Tech 等后來居上者也是主要供應商之一。韓...
三星EUV 薄膜 2023-01-16

為減少資本支出，美光將基于 EUV 光刻的 1γ nm 制程 DRAM 技術推遲到 2025 年

美國最大存儲芯片制造商美光科技周三宣布，公司將在 2023 年裁員大約 10%，并停發獎金。這再次表明，科技行業的增長放緩正在影響就業。作為減少資本支出的一部分，消息稱美光將使用 EUV 光刻的 1γ nm 制程 DRAM 推遲到 2025 年，232 層之后的 NAND 節點也被推遲。美光 1γ 制造技術中原定于 2024 年的某...
美光EUV光刻DRAM技術 2022-12-26

ASML：2022年EUV出貨超50臺，下一代2年后面世

據業內信息，近日全球光刻機巨頭ASML在今年的半導體EUV生態系統全球大會上表示，EUV設備出貨量這幾年來不斷上升，去年大約為42臺，而今年預測將超過50臺。2024年年底預計推出下一代High-NA EUV設備。從ASML今年Q3季度的財報數據可以看出，其收到了較多的TWINSCANEXE:5200訂單，而且目前所有的EUV客戶都...
ASMLEUV設備 2022-12-12

臺積電回應 EUV 光刻機生產耗電：每用 1 度電可為全球節省 4 度電，繼續推進半導體先進制程技術

據彭博社報道，ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦，約為前幾代設備的 10 倍，預計 2025 年將占中國臺灣省整體能源消耗的 12.5%，芯片行業可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。據中國臺灣《經濟日報》，針對外媒提到臺積電發展先進制程，耗費不少電力的消息，該公司 8 月 26 日引述...
臺積電EUV 光刻機 2022-08-29

EUV 光刻機耗能巨大，3 年后臺積電將吃掉中國臺灣 12% 電力

據彭博社報道，ASML 新一代 EUV 光刻機每臺耗電約 1 百萬瓦，約為前幾代設備的 10 倍，依賴該設備生產芯片的三星、臺積電等芯片制造大廠能源消耗巨大，芯片行業可能成為減少全球碳排放的重要絆腳石。報道稱，臺積電擁有業界最多的 80 臺 EUV 設備，而且正在安裝新一代設備，是吃電大戶，預計...
EUV 光刻機臺積電 2022-08-26

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