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↓在全部中搜索到 773 條關于“Diodes”的信息，用時:0.030 sec.

英飛凌推出CoolSiC 肖特基二極管2000 V的TO－247－2封裝，在提升效率的同時簡化設計

目前，許多工業應用正朝著更高功率水平、且功率損耗最小化的方向發展，實現這一目標的方法之一是提高直流母線電壓。針對這一市場趨勢，全球功率系統和物聯網領域的半導體領導者英飛凌科技股份公司（FSE代碼：IFX / OTCQX代碼：IFNNY）于 2024年9月推出CoolSiC™肖特基二極管2000 V G5產品系列，這...
英飛凌CoolSiC 肖特基二極管2000 V G5系列 2025-03-17

東芝第3代SiC肖特基勢壘二極管產品線增添1200 V新成員，其將助力工業電源設備實現高效率

東芝電子元件及存儲裝置株式會社（“東芝”）今日宣布，最新推出第3代碳化硅（SiC）肖特基勢壘二極管（SBD）產品線中增添“TRSxxx120Hx系列”1200 V產品，為其面向太陽能逆變器、電動汽車充電站和開關電源等工業設備降低功耗。東芝現已開始提供該系列的十款新產品，其中包括采用TO-247-2L封裝的五款產品...
東芝第3代SiC肖特基勢壘二...TRSxxx120Hx系列 2024-09-25

Nexperia優化齊納二極管產品組合，以解決過沖和噪聲現象

50μ A和通用器件為汽車和非汽車應用提供封裝靈活性Nexperia今日宣布對其豐富的齊納二極管產品組合進行兩項優化，以消除不良的過沖和噪聲行為，這在齊納技術領域是重大進步。首先，新型50 µA齊納系列二極管推出B-selection (Vz +/-2%)，Vz范圍從1.8 V到51 V，提供標準版和汽車版。這使得...
Nexperia50μA齊納系列二極管 2024-09-19

Nexperia的650 V兩種超快速恢復整流二極管采用D2PAK真雙引腳封裝，具備高效率和高可靠性

封裝配置使整流二極管符合更高的爬電距離和電氣間隙標準 Nexperia今天推出了采用D2 PAK真雙引腳 (R2P) 封裝的650V兩種超快速恢復整流二極管，可用于各種工業和消費應用，包括充電適配器、光伏 (PV)、逆變器、服務器和開關模式電源 (SMPS)。這些整流二極管結合了平...
Nexperia650V兩種超快速恢復整... 2024-07-11

意法半導體公布了新系列100V溝槽肖特基整流二極管以提高效率和功率密度

目標應用包括電信設備、服務器和智能表計的電源，以及LED車燈或汽車低壓DC/DC轉換器意法半導體推出可提升高開關頻率功率轉換器能效的100V溝槽肖特基整流二極管。隨著低開關損耗的寬禁帶半導體等技術的廣泛應用，設計人員開始提高功率轉換器的工作頻率，不斷刷新功率密度。不過，當開關頻率變得更高...
意法半導體100V溝槽肖特基整流二... 2024-04-02

三菱電機將開始提供用于數字相干通信，內置波長監視器的DFB－CAN樣品

三菱電機集團近日（2024年3月21日）宣布，將于4月1日開始提供其新型光器件樣品——內置波長監視器的DFB*1-CAN。這種創新的新型光源是業界率先使用TO-56CAN*2封裝進行高速、長距離傳輸的數字相干通信光源，有望為實現光收發模塊的超小型、低功耗做出貢獻。伴隨物聯網技術、高分辨率視頻流和生成式人...
三菱電機DFB－CAN光收發器 2024-03-25

ROHM推出實現業界超快trr的100V耐壓SBD“YQ系列”

采用溝槽MOS結構，使存在權衡關系的VF和IR相比以往產品得到顯著改善非常適用于汽車LED前照燈等高速開關應用全球知名半導體制造商ROHM（總部位于日本京都市）面向車載設備、工業設備、消費電子設備等的電源電路和保護電路，推出trr*1超快的100V耐壓肖特基勢壘二極管（以下簡稱“SBD”）“YQ系列”。 ...
rohm肖特基勢壘二極管SBD 2024-01-23

全億達庫存

Manufacture MFG. Part Number QTY Units Date Code RoHS Warehouse CSC CS330060 1,000 PCS +07 RoHS China RUBYCON 50YXG22MLLC(5X11) 15,000 PCS +08 RoHS China ...
2010-09-26

--BBS回帖(查看原帖)

六.Semiconductor and Thin Film Etchants for Microelectronic Circuits 用于微電子電路的半導體和薄膜蝕刻劑 1.Aluminum Etchants for Aluminum Metallizations in Microelectronics 微電子中鍍鋁用的鋁蝕刻劑 2.TRANSETCH-N-Selective Etchant for Gallium Nitride, Silicon Nitride or ...
2006-03-31

--BBS回帖(查看原帖)

1.Aluminum Etchants for Aluminum Metallizations in Microelectronics 微電子中鍍鋁用的鋁蝕刻劑 2.TRANSETCH-N-Selective Etchant for Gallium Nitride, Silicon Nitride or Aluminum Oxide Films 用于氮化鎵,氮化硅,氧化鋁薄膜的選擇性蝕刻劑 3.Silicon Dioxide (SiO2) Etchants二氧化硅蝕刻劑 4....
2006-03-31

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