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響應(yīng)電路線寬日益精細(xì)化的半導(dǎo)體市場(chǎng)需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功開發(fā)出一種光掩膜制造工藝,能夠適應(yīng)3納米(10-9米)光刻工藝,以支持半導(dǎo)體制造的尖端工藝——極紫外(EUV)光刻。 能夠支持3納米EUV光刻的光掩膜(照片:美國(guó)商業(yè)資訊) [背景]DNP不斷滿足半導(dǎo)體制造商... (來(lái)源:新品頻道)
DNP 3納米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
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