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響應電路線寬日益精細化的半導體市場需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功開發出一種光掩膜制造工藝，能夠適應3納米（10-9米）光刻工藝，以支持半導體制造的尖端工藝——極紫外(EUV)光刻。 能夠支持3納米EUV光刻的光掩膜（照片：美國商業資訊） [背景]DNP不斷滿足半導體制造商... （來源：新品頻道）
DNP 3納米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
電盛蘭達宣布向中國市場推出其主要面向戶外惡劣環境應用的SWS/CO2系列，在擴展其AC-DC開關電源產品陣容的同時，進一步鞏固了其世界工業領域標準開關電源的絕對領先地位。 SWS系列電源秉承了電盛蘭達產品高可靠性、高穩定性的一貫傳統，同時憑借電盛蘭達無錫生產基地的本地化優勢成功控制了產品成本，使... （來源：新品頻道）
電源SWS/CO2 2006-7-18 17:54
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