半導(dǎo)體光刻用光源制造商Gigaphoton Inc.(總部:櫪木縣小山市;總裁兼首席執(zhí)行官:Tatsuo Enami)宣布,與NEDO(新能源和產(chǎn)業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)組織)合作的新聞稿已在NEDO網(wǎng)站上公布。Gigaphoton參與了NEDO的項(xiàng)目“后5G信息和通信系統(tǒng)的增強(qiáng)型基礎(chǔ)設(shè)施的研究與開(kāi)發(fā)”,NEDO 在一份新聞稿中公布了此次合作的成果... (來(lái)源:新聞?lì)l道)
NEDO Gigaphoton 5G 2024-12-5 11:06
半導(dǎo)體光刻用光源制造商Gigaphoton Inc.(總部:櫪木縣小山市;總裁兼首席執(zhí)行官:Tatsuo Enami)宣布,“G300K”微孔加工光源已交付給日本一家專(zhuān)門(mén)從事后端設(shè)備制造的設(shè)備制造商,該集成系統(tǒng)已成功安裝在美國(guó)一家公司的工廠內(nèi)。 用于超精細(xì)刻蝕加工的KrF準(zhǔn)分子激光器G300K(照片:美國(guó)商業(yè)資訊) Gi... (來(lái)源:新聞?lì)l道)
Gigaphoton 分子激光器 G300K 2024-11-12 10:58
在包括東京電子(Tokyo Electron)和Lasertec在內(nèi)的日本芯片生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)商日益激烈的競(jìng)爭(zhēng)中,新一代半導(dǎo)體技術(shù)EUV光刻(極紫外光刻)是各方關(guān)注的焦點(diǎn)。 半導(dǎo)體的處理能力取決于電路的線寬,線寬越小,芯片性能越佳。EUV光刻使得7nm以下線寬的制程得以實(shí)現(xiàn)。荷蘭ASML(阿斯麥... (來(lái)源:新聞?lì)l道)
東京電子Lasertec光刻技術(shù)EUV芯片 2020-7-14 09:58
配備加快技術(shù)轉(zhuǎn)移的新技術(shù)半導(dǎo)體光刻光源制造商Gigaphoton株式會(huì)社(總部:栃木縣小山市、董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理:浦中克己)宣布,2020年將增加全新產(chǎn)品,其中包括采用新技術(shù)的最新半導(dǎo)體制造光刻光源ArF浸沒(méi)式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”這2種機(jī)型。隨著近年來(lái)IoT的普及以及AI的實(shí)際運(yùn)用,半導(dǎo)體用... (來(lái)源:新聞?lì)l道)
激光器GT66A 2020-2-21 14:36
Gigaphoton公司的光刻光源的領(lǐng)先制造商已宣布推出云計(jì)算贖回™,用于半導(dǎo)體制造中使用的準(zhǔn)分子激光器一個(gè)新的遠(yuǎn)程激光監(jiān)控解決方案。兌換云™是基于最新的Web技術(shù)的高度可擴(kuò)展性和可定制的解決方案 - 提供了一個(gè)開(kāi)放的創(chuàng)新平臺(tái),使外部合作伙伴,以促進(jìn)其發(fā)展,并允許該解決方案進(jìn)行調(diào)整,以... (來(lái)源:新品頻道)
Gigaphoton激光監(jiān)控解決方案準(zhǔn)分子激光器遠(yuǎn)程激光監(jiān)控解決方案 2015-7-10 14:38