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6月27日，思銳智能半導體先進裝備研發制造中心落成投產儀式在青島自貿片區隆重舉行，該中心的投產填補了青島在半導體核心裝備領域的空白。其中，中國半導體產業領軍人物張汝京，歐洲科學院院士、北京超弦存儲器研究院執行院長趙超，思銳智能董事長聶翔等出席活動，見證這一歷史性時刻。 該項目從建設... （來源：新聞頻道）
思銳智能半導體 2025-7-2 14:15
原子層沉積（ALD）工藝被認為是邏輯和存儲半導體器件微縮化的重要推動力。過去20年，ALD工藝及設備已經廣泛應用于邏輯和存儲器件的大批量制造，不斷推動諸如動態隨機存取存儲器（DRAM）、先進的鰭式場效應晶體管（FinFET）以及柵極環繞晶體管等器件性能的改進與創新。隨著摩爾定律放緩，ALD工藝逐漸滲透... （來源：新聞頻道）
SRIIALD新品泛半導體 2022-1-26 17:02
功率器件作為半導體產業的重要組成部分，擁有非常廣泛的技術分類以及應用場景。例如，傳統的硅基二極管、IGBT和MOSFET等產品經過數十年的發展，占據了絕對領先的市場份額。不過，隨著新能源汽車、數據中心、儲能、手機快充等應用的興起，擁有更高耐壓等級、更高開關頻率、更高性能的新型SiC、GaN等第三... （來源：新聞頻道）
SRIICICD 2021ALD技術半導體 2021-11-10 11:03
隨著蘋果公司正式推出140W氮化鎵（GaN）快充，以智能手機、筆記本電腦為代表的消費電子快充市場迎來了又一標桿性產品的重要拐點。近兩年來，全球GaN充電器的出貨量已經突破了數千萬只。然而，這僅僅只是開端。 Yole Développement的最新調研報告顯示，預計2026年全球GaN功率器件的市場規模達到11億美元... （來源：新聞頻道）
GaNSRII思銳智能 2021-11-1 15:03
光學薄膜的應用十分廣泛，從精密的光學儀器到光纖通訊、顯示器、數碼相機，乃至鈔票上的防偽技術，均不乏其身影。一般而言，光學薄膜是指在光學玻璃、光纖、晶體等各種材料的表面上鍍制一層或多層薄膜，并利用薄膜內光的干涉效應來改變透射光或反射光的強度、偏振狀態和相位變化的光學元件；而制備的過... （來源：新聞頻道）
思銳智能BeneqCIOE2021 2021-10-11 10:27
隨著各類鏡頭、顯示設備、生物識別技術產品、5G通訊技術和終端設備，以及最近備受關注的未來“元宇宙”重要場景入口設備的AR/VR等消費類終端的創新發展，對光學鍍膜設備的技術工藝以及性價比要求也越來越高。 在最近落下帷幕的第23屆中國國際光電博覽會（以下簡稱CIOE2021）上，業界領先的ALD設備制... （來源：新聞頻道）
鏡頭顯示設備生物識別ALD 光學鍍膜 2021-9-26 14:03
隨著各類鏡頭、顯示設備、生物識別技術產品、5G通訊技術和終端設備，以及最近備受關注的未來“元宇宙”重要場景入口設備的AR/VR等消費類終端的創新發展，對光學鍍膜設備的技術工藝以及性價比要求也越來越高。在最近落下帷幕的第23屆中國國際光電博覽會（以下簡稱CIOE2021）上，業界領先的ALD設備制造商... （來源：技術文章頻道）
生物識別技術 ALD光學鍍膜應用 G通訊技術 顯示設備 2021-9-26 11:15
隨著中國“十四五”規劃的提出、以及全球科技產業對于“碳達峰、碳中和”的目標達成共識，以碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）為代表的第三代半導體新材料憑借高擊穿電場、高熱導率、高電子飽和速率以及抗強輻射能力等優異特性，成為了支撐5G基建、新能源產業、特高壓、軌道交通等領域的核心技術。數據表明... （來源：技術文章頻道）
碳化硅（SiC）第三代半導體新材料GaN功率器件 2021-9-1 11:31
沉積、光刻、刻蝕以及等離子注入是半導體和超越摩爾領域制造工藝的4大關鍵技術。在新晶圓產線的投資建設中，約80%的投資用于購買設備，薄膜沉積設備更是占據其中約25%的比重。業界主流的薄膜沉積工藝主要有原子層沉積(ALD)、物理式真空鍍膜(PVD)和化學式真空鍍膜(CVD)等。其中ALD屬于CVD的一種，是當下... （來源：技術文章頻道）
薄膜沉積設備 ALD積淀 薄膜沉積工藝 2021-6-3 13:45
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