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↓在新聞中搜索到 33 條關于“1nm”的信息，用時:0.002 sec.

DNP實現適用于超2nm一代的EUV光刻光掩模精細圖案分辨率

開始供應用于下一代半導體的高NA EUV光掩模樣品Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 成功實現超2nm（nm：10-9米）一代1邏輯半導體光掩模所需的精細圖案分辨率，支持半導體制造領域的尖端工藝——極紫外光（EUV）光刻技術。用于超2nm一代EUV光刻的光掩模圖像（照片：美國商業資訊） DN...
DNPEUV光刻 2024-12-13

協氫推出日產2－50公斤制氫加壓一體機

8月12日，協氫新能源宣布正式推出猛軾MDD3502A電解水制氫加壓一體機。該產品日制氫加氫能力可達2-50公斤，采用最新的電解水催化劑材料、大幅提高電解效率，同時通過協氫下屬猛軾流體機械自主研發的壓縮機技術，實現了氫氣高效加壓，突破傳統設備的性能瓶頸。該產品的推出，將解決氫能無人機、氫...
協氫新能源制氫加壓一體機PEM制氫技術 2024-08-13

站內制氫：解除“危化品”管理禁錮還需多久？

“既然是二次能源，何必不就在站內制氫呢？”你可能想不到這句話出自國內氫能儲運裝備龍頭中集氫能研究院院長李懷恩。雖然工作的緣故，我需要經常與李院長溝通，但還是被他這句話所震動了，我想這項可能擠出李院長自身儲運裝備業務的判斷一定是客觀，也是理性的。也許我們在討論各種氫能運輸...
燃料電池技術氫能產業燃料電池汽車 2024-08-09

北科大攜手新紫光，打造面向1nm制程集成電路新賽道

近日，北京科技大學與新紫光集團簽約戰略合作協議。雙方將聚焦先進制程集成電路的前瞻技術和關鍵核心技術研究，開展科技創新、成果轉化、人才培養等全方位合作。據悉，本次戰略合作建立在前沿交叉科學技術研究院張躍院士團隊與紫光集團長期深入合作基礎上，主要包括共同建設“二維材料與器件集成技術聯...
北科大新紫光1nm制程集成電路 2024-07-19

將芯片節點縮小至 1nm 以下：彭博社對話 IMEC CEO

近日，比利時微電子研究中心（IMEC）發布了 1nm 工藝下金屬互連的新方法，解決了 1nm 節點互連發熱問題。事實上，IMEC 已經成為了全球半導體生態中的重要一環，在先進制程工藝的開發中有著舉足輕重的地位，和美國英特爾、IBM 并稱微電子領域“3I”。而隨著全球開始關注半導體問題，IMEC 由于其...
芯片節點 2021-07-26

臺積電 1nm 以下制程取得重大突破，已發表于 Nature

臺積電今日聯合臺大、麻省理工宣布，在 1nm 以下芯片方面取得重大進展，研究成果已發表于 Nature。該研究發現，利用半金屬鉍 Bi 作為二維材料的接觸電極，可以大幅降低電阻并提高電流，實現接近量子極限的能效，有望挑戰 1nm 以下制程的芯片。據介紹，該發現是由麻省理工團隊首先發現的，隨后臺...
臺積電1nm 2021-05-18

ASML（阿斯麥）已基本完成 1nm 光刻機設計

摩爾定律還沒有結束。日媒報道，由于新型冠狀病毒的傳播，近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網上發布會。 IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高分辨率EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強...
ASML1nm光刻機 2020-12-01

走在技術最前沿，臺積電要進軍1nm工藝

我們現在使用的半導體大部分是硅基電路，問世已經60年了，多年來都是按照摩爾定律2年一次微縮的規律發展，但它終究是有極限的。臺積電在突破5nm、3nm及未來的2nm之后，下一步就要進軍1nm工藝了。根據臺積電的規劃，今年會量產5nm工藝，2022年則會量產3nm工藝，2nm工藝已經在研發中了，預計會在20...
臺積電1nm工藝 2020-04-27

ASML研發下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限

在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創造了新紀錄。據報道，ASML公司正在研發新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。根據ASML之前的報告，去年他們出貨了26臺EUV光刻機，預計2020年交付35臺EUV光刻機，2021年則會達到45臺到50臺的交付量，是2019年的兩倍左...
ASMLEUV光刻機 2020-03-17

2021年ASML將推下一代EUV光刻機面向2nm、1nm工藝

作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司，荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機，主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝，預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C，兩者基本結構相同，但NXE:3400C采用模塊化設計，維護更加便捷，平均維修時間將從...
EUV光刻機5nm工藝 2020-02-18

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