KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）針對 10 納米及以下的掩膜技術推出了三款先進的光罩檢測系統，Teron™ 640、Teron™ SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實現當前和下一代掩膜設計的關鍵，使得光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識光刻中顯著并嚴重損害成品率的缺陷... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor掩膜技術光罩檢測系統 2016-8-26 11:42
KLA-Tencor 公司宣布推出 WaferSight™ PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer® 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支持 KLA-Tencor 獨特的 5D™ 圖案成型控制解決方案，此方案著重于解決圖案成型工藝控制上的五個主要問題——元件結構的三維... （來源：新品頻道）
KLA－TencorLMS IPRO6光罩圖案位置測量WaferSight PWG已圖案晶圓幾何形狀測量 2014-9-1 15:31
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