前往首頁 聯系我們 網站地圖
響應電路線寬日益精細化的半導體市場需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功開發出一種光掩膜制造工藝，能夠適應3納米（10-9米）光刻工藝，以支持半導體制造的尖端工藝——極紫外(EUV)光刻。 能夠支持3納米EUV光刻的光掩膜（照片：美國商業資訊） [背景]DNP不斷滿足半導體制造商... （來源：新品頻道）
DNP 3納米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
KLA-Tencor公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天針對10納米以下（sub-10nm）集成電路（IC）器件的開發和批量生產推出四款創新的量測系統：Archer™600疊對量測系統，WaferSight™PWG2圖案晶片幾何特征測量系統，SpectraShape™ 10K光學關鍵尺寸（CD）量測系統和SensArray®HighTemp 4... （來源：新品頻道）
KLA－TencorArcher600WaferSightPWG2SpectraShape 10KSensArrayHighTemp 4mm 2017-3-20 14:18
SuVolta今天宣布推出 PowerShrink™低功耗平臺。該平臺可以有效降低CMOS集成電路2倍以上的功耗，同時保持性能并提高良率。SuVolta和富士通半導體有限公司(Fujitsu Semiconductor Limited)今天還共同宣布，富士通已獲得授權使用SuVolta創新型PowerShrink™低功耗技術。 該PowerShrink低功耗平... （來源：新品頻道）
SuVoltaPowerShrink平面CMOS平臺 2011-6-8 11:28
中電網 中國電子行業研發工程師一站式服務平臺
關于中電網 廣告招商 聯系我們 招聘信息 友情鏈接 中電網導航 手機中電網 中電網官方微博
Copyright © 2000-2025 中電網 版權所有 京ICP備19016262號-2 京公網安備 11010802037127號
Tel: 010-53682288, 0755-33322333 Fax: 0755-33322099
<rt id="6keo0"></rt>
搜索到3條【EUV光刻】相關的新品。
查看關鍵詞的分類頻道
中電網官方微博