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三維晶體管結構包括FinFET和GAA FET等，是半導體工藝演進中的關鍵性突破之一，其重要性在于解決了傳統平面晶體管在納米尺度下的物理極限問題，支撐了摩爾定律的延續。2011年，英特爾成功量產采用FinFET的處理器；2022年，三星電子成為全球首家在3納米工藝中量產采用GAA結構的邏輯半導體的公司；2025年，... （來源：技術文章頻道）
FinFETFlip FET三維晶體管 2025-7-31 11:31
艾邁斯歐司朗第六代紅外芯片，IR:6通過真正的技術創新，在面部識別、智能傳感器和節能系統等應用中實現性能、效率和圖像質量的全方位提升。 雖然人眼無法感知紅外光，但它卻是眾多現代科技的核心要素。現代科技對高性能光源的需求與日俱增，即便這些光源超出了人眼可視范圍。IR:6以更高亮... （來源：技術文章頻道）
艾邁斯歐司朗紅外技術 2025-6-25 12:05
虛擬半導體工藝建模是研究金屬線設計選擇更為經濟、快捷的方法 作者：泛林集團 Semiverse Solutions 部門半導體工藝與整合部高級經理 Daebin Yim• 由于阻擋層相對尺寸及電阻率增加問題，半導體行業正在尋找替代銅的金屬線材料。• 在較小尺寸中，釕的性能優于銅和鈷，因此是較有潛力的替... （來源：技術文章頻道）
工藝建模金屬線材料電阻電容 2024-4-8 15:17
CCD圖像傳感器是通過將光學信號轉換為數字電信號來實現圖像的獲取、存儲、傳輸、處理和復現。光學信號轉化為數字信號主要由三部分組成，即鏡片，彩色濾鏡和感應電路。鏡片和彩色濾鏡主要是對接受的光線（即圖像）進行一定的預處理，感應電路為CCD傳感器的核心，它又可分為光敏元件陣列和電荷轉移器件兩... （來源：技術文章頻道）
CCD圖像傳感器電路構成 2024-2-29 10:15
作者：泛林集團 Semiverse Solutions 部門軟件應用工程師 Pradeep Nanja介紹半導體行業一直專注于使用先進的刻蝕設備和技術來實現圖形的微縮與先進技術的開發。隨著半導體器件尺寸縮減、工藝復雜程度提升，制造工藝中刻蝕工藝波動的影響將變得明顯。刻蝕終點探測用于確定刻蝕工藝是否完成、且沒有剩余材... （來源：技術文章頻道）
泛林集團 刻蝕終點探測 SEMulator3D 2024-1-12 15:13
作者：半導體工藝與整合 (SPI) 資深工程師 Assawer Soussou 博士1. 介紹隨著技術推進到1.5nm及更先進節點，后段器件集成將會遇到新的難題，比如需要降低金屬間距和支持新的工藝流程。為了強化電阻電容性能、減小邊緣定位誤差，并實現具有挑戰性的制造工藝，需要進行工藝調整。為應對這些挑戰，我們嘗試... （來源：技術文章頻道）
半大馬士革工藝流程 后段器件集成 2023-10-20 11:27
作者：泛林集團公司副總裁兼電介質原子層沉積產品總經理Aaron Fellis提升集成電路中的介電層性能可以在現在和未來的存儲器和邏輯電路發展中產生巨大的戰略影響。想象一下，在一個擠滿人的大房間里，每個人都有一條您需要的重要信息。他們都很樂意告訴您他們的信息，但問題是，他們都在同一時間說話。房... （來源：技術文章頻道）
沉積技術SPARC電薄膜串擾 2023-7-28 16:10
摘要基于機器學習的方法可用于實現和優化GaN基亞波長光柵(SWG)設計。在現代電力電子產品中，GaN等材料在眾多工業應用中發揮著至關重要的作用。在光子應用方面，亞波長光柵具有許多有用的特性，例如可調諧反射率和偏振選擇性，這使得它們非常的通用。由于它提供的眾多好處，這種SWG技術被用于各種元器件... （來源：技術文章頻道）
機器學習設計GaN 2022-12-12 10:49
作者：Art Pini有一類設計問題可以很容易地通過人類視覺來解決。例如，感知打印機中紙張的位置正確與否。判斷紙張對準與否對人類來講輕而易舉，但微處理器來說則另當別論。手機攝像頭需要測量環境光線以確定是否需要啟動閃光燈。如何無創評估血液中的氧含量？使用光電二極管或光電晶體管可以解決這些問... （來源：技術文章頻道）
光電二極管光電晶體管 2022-9-20 10:18
在干法刻蝕中，由于與氣體分子的碰撞和其他隨機熱效應，加速離子的軌跡是不均勻且不垂直的（圖1）。這會對刻蝕結果有所影響，因為晶圓上任何一點的刻蝕速率將根據大體積腔室可見的立體角和該角度范圍內的離子通量而變化。這些不均勻且特征相關的刻蝕速率使半導體工藝設計過程中刻蝕配方的研發愈發復雜。... （來源：技術文章頻道）
(FD)干法刻蝕 晶圓 2021-11-15 11:25
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