Switchtec™ Gen 6 PCIe 扇出型交換機提供高帶寬、低延遲和高級安全功能,適用于高性能計算、云計算和超大規模數據中心 隨著人工智能(AI)工作負載和高性能計算(HPC)應用對數據傳輸速度與低延遲的需求持續激增,Microchip Technology Inc.(微芯科技公司)宣布推出下一代Switchtec™ G... (來源:新聞頻道)
PCIe Gen 6交換機AI基礎設施數據中心 2025-10-15 15:24
Switchtec™ Gen 6 PCIe扇出型交換機提供高帶寬、低延遲和高級安全功能,適用于高性能計算、云計算和超大規模數據中心 隨著人工智能(AI)工作負載和高性能計算(HPC)應用對數據傳輸速度與低延遲的需求持續激增,Microchip Technology Inc.(微芯科技公司)宣布推出下一代Switchtec&trade... (來源:新品頻道)
Microchip3納米PCIe Gen 6交換機 2025-10-15 13:13
三維晶體管結構包括FinFET和GAA FET等,是半導體工藝演進中的關鍵性突破之一,其重要性在于解決了傳統平面晶體管在納米尺度下的物理極限問題,支撐了摩爾定律的延續。2011年,英特爾成功量產采用FinFET的處理器;2022年,三星電子成為全球首家在3納米工藝中量產采用GAA結構的邏輯半導體的公司;2025年,... (來源:技術文章頻道)
FinFETFlip FET三維晶體管 2025-7-31 11:31
先進特殊應用集成電路 (ASIC) 領導廠商創意電子(GUC) 今日宣布成功推出業界首款 Universal Chiplet Interconnect Express™ (UCIe™)物理層芯片,可達到每信道 32 Gbps 的數據速率,已實現 UCIe 規格定義中的最高速度。UCIe 32G IP 支持 UCIe 2.0規范,能提供每1毫米晶粒邊緣 10 Tbps (... (來源:新品頻道)
GUC UCIe 32G 芯片 2025-3-14 09:30
在汽車消費者個性化、舒適化和智能化需求推動下以及人工智能、數字化等新技術與汽車結合的大背景下,汽車智能座艙與智能駕駛技術迎來了新的技術革新,但智能座艙和智能駕駛技術在快速發展的同時,也面臨著一系列技術挑戰。9月13日下午,由電子創新網和Imagination聯合主辦的智能座艙與智能駕駛現狀與挑... (來源:新聞頻道)
智能座艙 智能駕駛 Imagination 2024-9-14 16:02
人工智能大模型的突然爆火,讓發電這個近200年的傳統產業意外再次引起關注:據業界數據顯示,僅ChatGPT每天就需要消耗超過50萬千瓦時電力,相當于1.7萬個美國家庭的用電量。而隨著生成式AI的廣泛應用,預計到2027年,整個人工智能行業每年將消耗85至134太瓦時(1太瓦時=10億千瓦時)的電力。如此高昂的... (來源:技術文章頻道)
存儲 兆易創新 2024-7-3 10:52
Dai Nippon Printing Co., Ltd.(簡稱DNP,東京證券交易所:7912)開始研發面向2納米邏輯半導體的光刻掩模版制造工藝,支持極紫外(EUV)光刻這一前沿的半導體制造技術。 EUV光刻及光刻保護膜Pellicle的圖片(照片:美國商業資訊) DNP還將作為分包商向東京Rapidus Corporation (Rapidus)提供這種新開發... (來源:新聞頻道)
DNP2納米EUV光刻 2024-3-29 09:05
蘋果Mac和iPhone芯片可能是迄今最強大芯片,為臺積電3納米。 但新報告指蘋果努力開發3納米下代芯片,著眼于更先進的2納米技術。雖未證實,但考慮到蘋果一向支持臺積電先進制程,仍然值得留意。蘋果此前已經采用了臺積電的5納米技術,在其M3 Mac芯片和iPhone 15 Pro系列的A17 Pro芯片中使用了3納米工藝。... (來源:新聞頻道)
臺積電2nm工藝制程 2024-3-5 09:15
NVIDIA的下一代GeForce RTX 50系列“Blackwell” GPU將在2024年第四季度“準備好推出”,根據最新的泄露消息。據Moore’s Law is Dead的一段新視頻稱,NVIDIA的下一代GeForce RTX 50系列“Blackwell” GPU將在2024年第四季度“準備好推出”……如果NVIDIA愿意的話。為什么這樣說呢?這將取決于在那個時... (來源:新聞頻道)
英偉達 RTX GeForce RTX 50系列 2023-12-22 15:56
響應電路線寬日益精細化的半導體市場需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功開發出一種光掩膜制造工藝,能夠適應3納米(10-9米)光刻工藝,以支持半導體制造的尖端工藝——極紫外(EUV)光刻。 能夠支持3納米EUV光刻的光掩膜(照片:美國商業資訊) [背景]DNP不斷滿足半導體制造商... (來源:新品頻道)
DNP 3納米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32