光刻機大廠ASML于11月19日在中國臺灣舉行媒體會,ASML中國臺灣暨東南亞區客戶營銷主管徐寬成指出,隨著半導體制程技術持續不斷微縮,High NA EUV光刻機將有助于客戶節省時間及成本,目前客戶已有英特爾、IBM 及三星等,累積超過35萬片晶圓使用High NA EUV光刻機曝光。 徐寬成說,當今社會正從芯片無... (來源:新聞頻道)
ASMLHigh NA EUV光刻機 2025-11-21 10:12
據韓國媒體ETnews報道,為了追趕臺積電,三星電子正積極加速2nm GAA 制程的推進,并積極與高價值客戶建立長期合作關系,目標是2027年前拿下20%的市占率,并希望能夠實現扭虧為盈。 報道引述三星內部人士的話稱,三星已“設定到2027年實現市占率20%的目標(以銷售額計算)”。由于晶圓代工... (來源:新聞頻道)
三星晶圓代工 2025-11-13 09:08
若無 ASML 當前提供的極紫外光刻(EUV)設備,2 納米全環繞柵極(GAA)晶圓的生產幾乎無法實現。據 Fnnews 報道,這家荷蘭公司正組建一支專門團隊,協助三星在其位于美國得克薩斯州泰勒(Taylor)的新工廠安裝相關設備。三星即將啟動該工廠的運營,初期將利用上述光刻技術量產高性能人工智能芯片及其他... (來源:新聞頻道)
ASML 三星EUV 光刻設備 2025-11-6 09:22
據媒體報道,今年7月,三星與特斯拉達成一項價值約165億美元的訂單,將與臺積電(TSMC)共同生產特斯拉的AI5芯片。 為此,三星正加速其美國泰勒工廠的建設進度,以期與臺積電位于亞利桑那州鳳凰城的工廠同步投入生產。 為支持極紫外(EUV)光刻機的初期啟動,設備供應商ASML已著手組建團隊,協助... (來源:新聞頻道)
三星ASMLEUV 2025-11-6 09:15
工商時報昨日(10 月 30 日)發布博文,報道稱臺積電計劃投資約 1.5 萬億新臺幣(現匯率約合 3475.5 億元人民幣),新建四座 1.4 納米(A14)工藝晶圓廠。該項目預計將創造近萬個就業崗位,并計劃于 2027 年底啟動風險性試產,2028 年下半年實現大規模量產。 援引該媒體報道,臺積電已向中部科學園區... (來源:新聞頻道)
晶圓臺積電 2025-10-31 15:46
當地時間10月28日,美國新創光刻設備廠商Substrate宣布,他們已開發出一款全新的光刻機,有能力與全球光刻機龍頭大廠——荷蘭ASML最先進的每臺售價接近4億美元的High NA EUV光刻機競爭。 據介紹,Substrate所開發的是使用X射線作為光源的光刻機,該光源利用粒子加速器產生,波長比ASM... (來源:新聞頻道)
X射線光刻機Substrate 2025-10-30 15:09
據臺媒《自由時報》報道,有傳聞稱,今年7月底才退休的臺積電前技術研發暨企業策略發展資深副總經理羅唯仁可能將會加盟英特爾研發部門。 資料顯示,羅唯仁畢業于臺大物理系,隨后取得美國加州大學柏克萊分校固態物理與表面化學博士學位,早年就曾在英特爾擔任先進技術制造廠(CTM)廠長。 2004年加入... (來源:新聞頻道)
臺積電英特爾 2025-10-29 09:15
光罩大廠Tekscend Photomask(科盛德光罩)近日于日本東京證交所掛牌上市,募資規模達1,566億元日元。而隨著Tekscend Photomask的上市,象征著半導體產業前進至埃米制程,扮演最前端制程的光罩重要性大大增加。 供應鏈指出,光罩好比芯片制作的底片,光罩受污染會導致無法提升最終良率。因此,臺積電... (來源:新聞頻道)
EUV臺積電光刻機 2025-10-24 09:11
新突思公司(Synaptics® Incorporated)(納斯達克股票代碼:SYNA)今日宣布推出全新的Astra™ SL2600系列多模態邊緣人工智能(Edge AI)處理器,旨在提供卓越的性能和能效。Astra SL2600系列將賦能新一代經濟高效的智能設備,讓認知物聯網(IoT)成為現實。 SL2600系列將與SL2610產品... (來源:新聞頻道)
新突思AstraGenAI處理器物聯網 2025-10-21 13:15
據報道,三星電子正在加大對極紫外(EUV)光刻設備的投資,計劃為其存儲部門新增五套設備,同時為其晶圓代工部門新增兩套高數值孔徑(High NA)EUV設備。隨著DRAM和高帶寬存儲器(HBM)制造商競相擴大下一代產能,此舉將使三星在預期的存儲超級周期中占據優勢。 據報道,三星計劃為其存儲業務部署五... (來源:新聞頻道)
三星High NA EUV光刻機2nm 2025-10-20 15:03