當地時間10月28日,美國新創光刻設備廠商Substrate宣布,他們已開發出一款全新的光刻機,有能力與全球光刻機龍頭大廠——荷蘭ASML最先進的每臺售價接近4億美元的High NA EUV光刻機競爭。 據介紹,Substrate所開發的是使用X射線作為光源的光刻機,該光源利用粒子加速器產生,波長比ASM... (來源:新聞頻道)
X射線光刻機Substrate 2025-10-30 15:09
光罩大廠Tekscend Photomask(科盛德光罩)近日于日本東京證交所掛牌上市,募資規模達1,566億元日元。而隨著Tekscend Photomask的上市,象征著半導體產業前進至埃米制程,扮演最前端制程的光罩重要性大大增加。 供應鏈指出,光罩好比芯片制作的底片,光罩受污染會導致無法提升最終良率。因此,臺積電... (來源:新聞頻道)
EUV臺積電光刻機 2025-10-24 09:11
據報道,三星電子正在加大對極紫外(EUV)光刻設備的投資,計劃為其存儲部門新增五套設備,同時為其晶圓代工部門新增兩套高數值孔徑(High NA)EUV設備。隨著DRAM和高帶寬存儲器(HBM)制造商競相擴大下一代產能,此舉將使三星在預期的存儲超級周期中占據優勢。 據報道,三星計劃為其存儲業務部署五... (來源:新聞頻道)
三星High NA EUV光刻機2nm 2025-10-20 15:03
據路透社報導,美國紐約州公共服務委員會(PSC)已批準由國家電網公司(National Grid)建設一條兩英里、345千伏的地下輸電線,連接克雷(Clay)變電站與美光預定于奧農達加郡(Onondaga County)設立的半導體超級晶圓廠(Mega Fab),這項輸電工程是支撐美光1,000億美元投資計劃的關鍵一環。 美光的... (來源:新聞頻道)
美光半導體 2025-10-17 15:10
阿斯麥(ASML)近期發布2025年第三季度財報。在該季度,ASML實現凈銷售額75億歐元,毛利率為51.6%,符合公司預期,凈利潤達21億歐元。第三季度ASML新增訂單金額為54億歐元,其中36億歐元為EUV光刻機訂單。 ASML預計2025年第四季度凈銷售額在92億~98億歐元之間,毛利率介于51%~53%;預計2025年全年凈... (來源:新聞頻道)
ASML光刻機 2025-10-15 16:18
據報道,英特爾已加大對荷蘭芯片設備制造商ASML High NA(高數值孔徑)EUV光刻機的購買力度,意圖為其Intel 14A(1.4nm)工藝“傾盡全力”。 High NA EUV光刻機被稱為芯片市場上的“圣杯”,這不僅是因為其高昂的價格,還因為其光刻質量。Jerry Capital的一篇分析文章披露,英特... (來源:新聞頻道)
Intel 14A英特爾光刻機 2025-9-30 09:37
近日,在美國加利福尼亞州蒙特雷舉辦的 “2025 SPIE 光掩模技術 + EUV 光刻會議上”,比利時微電子研究中心(imec) 展示了單次打印High NA EUV 光刻的兩項突破性成就: (1)間距為 20nm 的線結構,尖端到尖端臨界尺寸 (CD) 為 13nm,適用于鑲嵌金屬化; (2)使用直接金屬蝕刻 (... (來源:新聞頻道)
imecEUV光刻機 2025-9-30 09:07
9月3日,SK海力士公司宣布,該公司已經在韓國利川的M16制造工廠安裝了首個商用High NA EUV(高數值孔徑極紫外光刻)系統并投入量產。 在該系統安裝的活動中,SK海力士研發部長Cha Seon Yong、制造技術部長Lee Byoungki和ASML日本SK海力士客戶團隊負責人Kim Byeong-Chan共同慶祝了生產下一代DRAM的設... (來源:新聞頻道)
SK海力士High NA EUV光刻機 2025-9-4 10:39
7月16日,光刻機大廠ASML發布了2025年第二季度財報,營收及凈利潤均實現了不錯的同比增長,新增訂單和毛利率也高于預期。ASML在該季度還交付了首臺第二代 High NA EUV 光刻機TWINSCAN EXE:5200B。 但由于日益緊張的地緣政治、宏觀經濟形勢、關稅、出口管制等因素的影響,ASML對于三季度和2025年的營... (來源:新聞頻道)
ASML 2025-7-17 15:02
據雅虎財經報道,英特爾新任CEO陳立武正考慮對其晶圓代工業務進行重大調整,停止向外部客戶推銷其長期開發的尖端制程技術,其中就包括不再向外部客戶推銷Intel 18A和后續的演進版本的Intel 18A-P制程。如果該消息屬實,那么將意味著英特爾需要對已經投入數十億美元開發成本Intel 18A制程計提相關損失。... (來源:新聞頻道)
英特爾Intel 18A 2025-7-3 10:15