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9月3日，SK海力士公司宣布，該公司已經在韓國利川的M16制造工廠安裝了首個商用High NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻）系統并投入量產。 在該系統安裝的活動中，SK海力士研發部長Cha Seon Yong、制造技術部長Lee Byoungki和ASML日本SK海力士客戶團隊負責人Kim Byeong-Chan共同慶祝了生產下一代DRAM的設... （來源：新聞頻道）
SK海力士High NA EUV光刻機 2025-9-4 10:39
7月16日，光刻機大廠ASML發布了2025年第二季度財報，營收及凈利潤均實現了不錯的同比增長，新增訂單和毛利率也高于預期。ASML在該季度還交付了首臺第二代 High NA EUV 光刻機TWINSCAN EXE:5200B。 但由于日益緊張的地緣政治、宏觀經濟形勢、關稅、出口管制等因素的影響，ASML對于三季度和2025年的營... （來源：新聞頻道）
ASML 2025-7-17 15:02
據雅虎財經報道，英特爾新任CEO陳立武正考慮對其晶圓代工業務進行重大調整，停止向外部客戶推銷其長期開發的尖端制程技術，其中就包括不再向外部客戶推銷Intel 18A和后續的演進版本的Intel 18A-P制程。如果該消息屬實，那么將意味著英特爾需要對已經投入數十億美元開發成本Intel 18A制程計提相關損失。... （來源：新聞頻道）
英特爾Intel 18A 2025-7-3 10:15
在臺積電北美技術研討會上，臺積電表示無需使用High NA（高數值孔徑）EUV光刻機來制造其A14 (1.4nm) 工藝的芯片。 臺積電在研討會上介紹了A14工藝，并表示預計將于2028年投入生產。此前，臺積電曾表示A16工藝將于2026年底問世，而且也不需要使用High NA EUV光刻設備。 據悉，臺積電業務發展高級副... （來源：新聞頻道）
臺積電A14A16光刻機 2025-4-30 15:46
英特爾 CEO 帕特・基辛格在 2024 財年第二財季財報公布后的投資者電話會議上再次確認了 Intel 10A 這一尚未正式官宣制程節點的存在。他表示：除了 Intel 18A 外我們還在推進 Intel 14A 和 Intel 10A 的開發。……隨著我們將 Intel 4 和 3 的產能轉移到愛爾蘭（的量產晶圓廠），我們的 TD（T... （來源：新聞頻道）
英特爾 Intel 10A 2024-8-5 09:15
英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標，目前，Intel 7，采用EUV（極紫外光刻）技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。正在順利推進中的Intel 20A和Intel 18A兩個節點，將繼續采用EUV技術，并應用RibbonFET全環繞柵極晶體管和PowerVia背面供電技術，助力英特爾于2025年重奪制程領先性... （來源：新聞頻道）
英特爾節點技術EUV技術 2024-5-11 08:40
繪制精細電路的第一步金屬-氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。MOSFET體積越小，單個 MOSFET的耗電量就越少，還可以制造出更多的晶體管，讓其發揮作用，可謂是一舉多得。可見，制造更小的MOSFET成了關鍵因素，并且想制成微細的電路，第一步... （來源：技術文章頻道）
半導體 光刻 2023-1-12 15:24
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